锆平面靶为平板式磁控溅射靶材，常见矩形、圆形，材质选用金属锆坯料，背面绑定无氧铜或钼背板，适配平板磁控溅射阴极。氩离子轰击靶面可沉积金属锆薄膜；通入氮气、氧气等反应气体，能够制备 ZrN 氮化锆、ZrO₂氧化锆功能薄膜。适合单片镀膜设备、小批量生产及研发试样场景。
常用牌号：R60702（Zr702）、R60704；纯度可选 99.5%～99.99%，低铪高纯锆可按需定制；外形尺寸、厚度、安装孔位可按图纸加工。
材料特性与加工工艺
材料特性
金属锆为难熔耐蚀金属，熔点 1852℃，塑性良好，常温下化学稳定性佳，抗酸碱腐蚀；无磁性，不会干扰溅射磁场。
Zr 金属膜：耐腐蚀打底膜、阻挡层；
ZrN 氮化锆膜：金色硬质涂层，耐磨、抗腐蚀；
ZrO₂氧化锆膜：高折射率光学膜，致密稳定。
制备工艺
1. 坯料制备：锆锭锻造、轧制，真空去应力退火，调控晶粒组织，减少溅射颗粒；
2. 精密机加工：切割、车铣外形，靶面研磨抛光，管控平面度与表面粗糙度；
3. 背板绑定：采用铟焊或扩散焊，将锆材与背板结合，保证导热性能；
4. 后处理：超声洁净清洗、真空除气、外观及探伤检测，降低镀膜起弧风险。
核心优势
1. 结构简单，加工周期短，打样、小批量试样成本可控；
2. 靶面晶粒均匀，小面积基板膜层厚度、成分稳定；
3. 可 DC 直流溅射，也可反应溅射制备氮化锆、氧化锆多层膜系；
4. 耐蚀基材，薄膜附着力好，耐磨防护与光学场景均可使用。
产品局限
溅射刻蚀集中在跑道区域，靶材利用率偏低；不适合大面积连续卷对卷、大板量产产线。大功率长时间溅射时，对背板水冷要求较高。
典型应用
1. 装饰硬质镀膜：卫浴五金、钟表、刀具，制备 ZrN 金色耐磨防护膜；
2. 光学镀膜：光学镜片、滤光片，氧化锆高折射率光学膜；
3. 半导体与微电子：金属阻挡层、器件耐腐蚀保护膜；
4. 防腐功能涂层：精密构件、化工配件耐蚀薄膜；
5. 科研实验：薄膜材料研发，样品试制。