4N 铬指纯度 99.99% 金属铬，Cr≥99.99%，杂质总含量≤0.01%，一般采用电解提纯 + 真空熔炼 / 氢还原工艺制备，属于高纯镀膜、半导体、特种合金用基础原料，供货形态包含铬粒、铬锭、铬棒、铬板、铬溅射靶坯等。
产品概述
元素符号：Cr，CAS：7440-47-3
外观：银白略带浅蓝金属光泽，质地硬脆；颗粒为不规则碎粒 / 短段；锭材为致密铸锭
纯度：4N（Cr≥99.99%），严格管控 Fe、Si、Al、Cu、O、N、C 等金属与气体杂质；更高规格可做到 4N5、5N
密度：7.19 g/cm³
熔点：1907℃，沸点 2671℃
生产工艺：电解铬片 → 真空熔炼 / 氢还原提纯 → 4N 铬锭，再加工成铬粒、铬棒、铬板、铬靶材
核心理化特性
1. 高硬度：单质铬莫氏硬度约 8.5，在纯金属中硬度较高，室温下偏脆
2. 自钝化耐氧化：常温表面生成致密氧化膜，抗大气腐蚀；高温下会逐步氧化
3. 低膨胀系数，热稳定性好，薄膜沉积时不易产生应力开裂
4. 导电导热良好，适合磁控溅射、真空蒸发镀膜
5. 反铁磁特性，低于 311K 呈反铁磁，高于该温度顺磁，用于磁薄膜科研
6. 合金强化作用，添加到合金中提升硬度、耐磨、抗氧化性能
典型应用领域
1. 半导体与真空镀膜
4N 铬粒作为 PVD 蒸发料；锻轧制备铬溅射靶材，沉积铬金属阻挡层、粘附层、遮光膜，用于芯片、光学元器件、显示器件薄膜
2. 硬质涂层
制备氮化铬、碳化铬耐磨镀层，用于刀具、模具、装饰防护膜
3. 高端特种合金
航空、高温合金添加组元，提升合金抗氧化、耐磨性能
4. 科研实验
实验室高纯熔炼、磁性薄膜研究、材料研发
5. 电子元器件
薄膜电阻、传感器金属膜层