3N5 锆粒，即纯度 99.95% 高纯金属锆颗粒，由 3N5 高纯锆棒 / 结晶锆裁切加工而成，是真空蒸发镀膜行业常用高纯蒸发原料。3N5 代表 Zr+Hf≥99.95%，杂质总量控制在 0.05% 以内，重点管控氧、碳、氮、铪等间隙与金属杂质。
产品概述
外观：银灰色金属光泽短圆柱颗粒，表面洁净，无油污氧化皮；常规规格 Φ2×3mm、Φ3×4mm，粒度可按需定制
纯度：3N5（Zr+Hf≥99.95%），可按指标限定铪含量、氧碳氮杂质，适配镀膜工艺要求
CAS：7440-67-7
密度：6.52 g/cm³
熔点：1855℃，沸点 4377℃
生产链路：高纯海绵锆→3N5 锆锭 / 结晶锆→锆棒→裁切→3N5 锆粒
核心理化特性
1. 低杂质、膜层稳定：气体杂质含量低，真空蒸发时放气少，成膜针孔少，薄膜均匀性好，适合光学、硬质镀膜
2. 低热中子俘获截面：中子穿透性好，可用于核相关高纯实验构件原料
3. 优异耐蚀性：常温表面生成致密氧化钝化膜，耐盐酸、有机酸、海水、盐溶液；不耐氢氟酸、含氟介质
4. 高温吸气性能：高温下吸附氧、氮、氢气，可作为真空吸气原料
5. 投料便捷：颗粒形态流动性好，对比锆粉扬尘少，自燃风险更低，电子束蒸发、热蒸发投料方便
典型应用领域
1. 真空光学镀膜：电子束蒸发料，制备高折射率锆膜、多层光学介质膜、红外镜片涂层
2. 硬质涂层：反应蒸发制备氮化锆耐磨镀层，用于刀具、模具防护
3. 半导体薄膜：制备金属锆阻挡层、钝化保护层
4. 特种合金熔炼：高纯合金添加组元，脱氧、细化晶粒
5. 真空电子器件：真空腔体吸气材料
6. 科研实验：实验室高纯熔炼、材料研发、增材制造原料