Ti5N 高纯钛蒸发镀颗粒，即5N 高纯金属钛粒，Ti≥99.995%，杂质总含量≤10ppm，由超高纯海绵钛经多次真空电子束重熔提纯，再裁切制成颗粒，是电子束蒸发镀膜专用高纯蒸发原料，广泛用于半导体、光学、硬质涂层领域。
产品概述
元素符号：Ti，CAS：7440-32-6
外观：银白色金属颗粒，常规为短圆柱粒，表面洁净无氧化皮、油污
纯度：5N（Ti≥99.999%），可 GD-MS 全元素检测，严控 O、C、N、Fe、Si 等气体与金属杂质
常规粒度：Φ2×3mm、Φ3×4mm，粒度可按需定制
密度：4.506 g/cm³
熔点：1668℃，沸点：3262℃
生产链路：高纯海绵钛 → 真空电子束多次重熔提纯 → 5N 钛坯 → 裁切 → Ti5N 高纯钛蒸发镀颗粒
核心理化特性
1. 超低杂质，真空镀膜放气少
氧碳氮等气体杂质控制水平极低，电子束蒸发过程放气低，薄膜针孔少，膜层组分均匀，降低器件缺陷，适配高端 PVD 蒸发工艺。
2. 轻质高比强度
密度远低于铬、锆、铪等金属，塑性优良，基底附着力强。
3. 自钝化耐蚀
常温表面快速生成二氧化钛钝化膜，耐海水、有机酸、弱碱；不耐氢氟酸、热浓盐酸。
4. 导电导热良好，适配电子束蒸发，通入氮气反应可制备氮化钛 TiN 金色硬质耐磨涂层。
5. 生物相容性优异，金属析出低，可用于医用薄膜科研制备。
典型应用领域
1. 半导体真空镀膜
电子束蒸发原料，沉积钛粘附层、扩散阻挡层、金属接触薄膜，用于存储芯片、显示面板、MEMS 器件。
2. 光学真空镀膜
制备 TiO₂光学膜、多层增透 / 高反光学膜系。
3. 硬质装饰涂层
反应蒸发制备 TiN 氮化钛耐磨金色镀层，用于刀具、模具、消费电子装饰膜。
4. 新能源
光伏、储能器件薄膜电极与防护涂层。
5. 科研实验
高纯熔炼、薄膜新材料、低温器件试样研发。