4N 钒即金属钒纯度≥99.99%，杂质总含量≤100ppm，采用粗钒经熔盐电解精炼、真空电子束多次重熔提纯制备，严控氧、氮、碳、铁、硅等气体与金属杂质，是半导体、超导、特种合金、真空镀膜领域高端高纯原料，供货形态包含钒粒、钒锭、钒棒、钒板、溅射靶坯。
产品概述
元素符号：V，CAS：7440-62-2
外观：银灰色金属，带有明亮金属光泽；致密坯料表面洁净；颗粒为不规则碎粒 / 短段
纯度：4N（V≥99.99%），可提供 GD-MS 全元素检测；更高规格可选 4N5、5N 高纯钒
密度：6.11 g/cm³
熔点：1890℃，沸点：3380℃
生产链路：工业粗钒 → 电解精炼 / 真空电子束熔炼提纯 → 4N 钒锭 → 深加工成钒粒、钒棒、钒板、4N 钒溅射靶材
核心理化特性
1. 低杂质，真空镀膜稳定
氧、碳、氮杂质控制水平低，真空环境下放气少，沉积薄膜缺陷少、组分均匀，适配磁控溅射、电子束蒸发工艺。
2. 体心立方晶体，高温强度优良
高温工况力学性能稳定，抗辐照、肿胀率低；低热中子俘获截面，适合先进核 / 聚变堆相关研究。
3. 自钝化耐蚀
常温表面形成氧化钝化膜，耐大气腐蚀；不耐氢氟酸、热浓强酸。
4. 超导相关特性
可作为超导线材扩散阻挡层，用于高场超导磁体材料研发。
5. 合金强化作用
添加至钛合金、高温合金中，细化晶粒、提升强度与韧性，经典 Ti-6Al-4V 钛合金核心添加元素。
典型应用领域
1. 半导体真空镀膜
4N 钒靶材、钒粒作为 PVD 蒸发 / 溅射源，制备金属钒扩散阻挡层、金属薄膜，用于微电子器件。
2. 超导材料
Nb₃Sn 超导磁体的扩散阻隔层，防止锡元素扩散，用于高场超导磁体研发。
3. 特种高端合金
航空航天钛合金、高温合金添加组元，提升材料强度、韧性与耐热性能。
4. 核工业科研
聚变堆、快堆候选结构材料，低活化、抗辐照，堆内构件相关试验研究。
5. 科研实验
高纯熔炼、薄膜新材料、相变材料研发。
储运与安全提示
完整致密 4N 钒常温稳定；打磨、破碎产生的钒粉尘活性较高，高温条件存在自燃风险，加工工位配套除尘，金属切屑单独收集管控。
真空密封包装，干燥存放，远离强氧化剂、氢氟酸。
热加工、焊接、镀膜作业，建议惰性气氛保护，防止高温吸氧氮化。