5N 镍即Ni≥99.999%，杂质总含量≤10ppm，一般采用电解高纯镍为原料，经真空电子束熔炼提纯制备，严控氧、碳、氮、铁、铜、钴等金属与气体杂质，是半导体、磁性薄膜、传感器、高端科研领域的高纯原料，供货形态包含镍粒、镍锭、镍棒、镍板、溅射靶坯。
产品概述
元素符号：Ni，CAS：7440-02-0
外观：银白色金属，具有明亮金属光泽；颗粒多为短圆柱或不规则碎粒，锭材、板材表面光洁
纯度：5N（Ni≥99.999%），可提供 GD-MS 全元素杂质检测；更高规格可提供 5N5
密度：8.91 g/cm³
熔点：1455℃，沸点：2913℃
生产链路：高纯电解镍 → 真空电子束多次重熔提纯 → 5N 镍锭 → 深加工为镍粒、镍棒、镍板、5N 镍溅射靶材
核心理化特性
1. 杂质极低，薄膜性能稳定
气体杂质含量低，真空镀膜放气少，薄膜针孔少，成分均匀，减少器件缺陷，适配磁控溅射、电子束蒸发。
2. 良好铁磁特性
具备铁磁性，可制备磁性薄膜、磁阻器件、磁存储相关薄膜层。
3. 塑性优异
延展性好，可锻造、轧制、拉丝、折弯、机加工，易于成型。
4. 耐蚀性能良好
常温大气环境钝化防锈；耐碱、部分有机酸介质；不耐硝酸、含强氧化剂的酸性介质。
5. 导电导热优良，适合制备金属电极、薄膜导电层。
典型应用领域
1. 半导体行业
5N 镍靶材、镍粒用于 PVD 镀膜，制备镍金属电极、扩散阻挡层、接触层，用于存储芯片、微电子器件。
2. 磁性薄膜器件
制备磁阻薄膜、磁传感器、磁性存储薄膜，自旋电子材料研发。
3. 真空光学镀膜
电子束蒸发原料，制备金属镍膜、多层光学金属膜系。
4. 特种合金冶炼
高端合金添加组元，提升合金韧性、耐蚀与耐热性能。
5. 电池材料研发
锂电、固态电池电极薄膜研发。
6. 科研实验
高纯熔炼、新材料、磁性材料、薄膜试样研发。