4N5 钛，即金属钛纯度≥99.995%，杂质总含量≤50ppm。采用高纯海绵钛作为原料，经多次真空电子束熔炼或真空电弧重熔提纯，严格控制氧、氮、碳、铁、硅等气体及金属杂质，是半导体、光学镀膜、新材料科研领域的高端高纯原料。可提供钛锭、钛粒、钛棒、钛板、溅射靶坯等多种形态。
产品概述
元素符号：Ti，CAS 号：7440-32-6
外观：银白色金属，带有明亮金属光泽；致密坯料表面光洁，颗粒形态为不规则碎粒或短段
纯度等级：4N5（Ti ≥99.995%）；可按需提供 GD-MS 全元素检测，更高规格可做到 5N 高纯钛
密度：4.506 g/cm³
熔点：1668℃，沸点：3262℃
生产工艺路线：高纯海绵钛 → 真空多次重熔提纯 → 4N5 钛锭 → 深加工得到钛粒、钛棒、钛板、4N5 钛溅射靶材
核心理化特性
1. 低杂质，镀膜性能稳定
氧、碳、氮等气体杂质控制在很低水平，真空环境下放气少，沉积薄膜针孔少，膜层均匀性佳，适合高端 PVD 镀膜工艺。
2. 轻质高比强度
密度远低于铬、锆、铪等金属，塑性良好，可锻造、轧制、拉丝、机加工成型。
3. 自钝化耐蚀特性
常温表面快速生成致密二氧化钛钝化膜，耐海水、有机酸、弱碱介质；不耐氢氟酸、热浓盐酸。
4. 低温韧性优良
低温工况不易脆断，适用于低温器件、超导材料相关研发。
5. 导电导热性能良好
适配磁控溅射、电子束蒸发，反应镀膜可制备氮化钛硬质涂层。
6. 生物相容性优异
高纯材质金属离子析出低，可用于医疗相关材料研究。
典型应用领域
1. 半导体产业
4N5 钛靶材、钛粒用于 PVD 沉积工艺，制备钛粘附层、阻挡层、金属电极薄膜，应用于存储芯片、显示面板、光伏器件。
2. 光学真空镀膜
用作电子束蒸发原料，制备二氧化钛光学膜、多层增透 / 高反膜；反应溅射制备氮化钛耐磨装饰膜与刀具硬质涂层。
3. 科研实验
高纯熔炼、薄膜新材料研发、低温试样、超导器件基材。
4. 新能源领域
光伏、储能器件薄膜电极与防护涂层制备。
5. 生物医疗研发
高纯基材，用于医用薄膜、植入材料相关试验制备。